ISSN:
0323-7648
Schlagwort(e):
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Quelle:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Thema:
Chemie und Pharmazie
,
Physik
Beschreibung / Inhaltsverzeichnis:
An unmodified uncovering of structural inhomogeneities in polymers depends essentially on the selectivity of plasma etching by which weakly bound regions can be etched off. To a certain degree the selectivity of degradation can be controlled by plasma parameters. Further, the structural changes caused by plasma UV radiation (crosslinking, formation of radicals and double bonds) can be reduced by appropriate etching techniques. Considering these facts the plasma etching method can be applied for preparing highly characteristic etching patterns of the polymer structure.
Notizen:
Eine wirklichkeitsgetreue Freilegung von Strukturinhomogenitäten in Polymeren hängt stark von der Selektivität der Plasmaätzung ab, mit der schwächer gebundene Polymerbereiche herausgeätzt werden können. In gewissem Umfang kann durch die Wahl der Plasmaparameter die Selektivität des Abbaus gesteuert werden. In gleicher Weise lassen sich auch die strukturverändernden Wirkungen der Plasma-UV-Strahlung (Vernetzung, Radikalbildung, Bildung von Doppelbindungen usw.) durch geeignete Ätzbedingungen verringern. Bei Beachtung dieser Gesichtspunkte liefert die Plasmaätzmethode sehr charakteristische Ätzreliefs der Polymerstruktur.
Zusätzliches Material:
7 Ill.
Materialart:
Digitale Medien
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/actp.1980.010310110
Permalink
