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  • 1
    Digitale Medien
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    Springer
    Molecular genetics and genomics 222 (1990), S. 291-296 
    ISSN: 1617-4623
    Schlagwort(e): Aflatoxin B1 ; Cytochrome P450 ; Rat hepatoma cells
    Quelle: Springer Online Journal Archives 1860-2000
    Thema: Biologie
    Notizen: Summary We present a strategy to elucidate the rate-limiting steps in activation of carcinogenic compounds by cytochromes P450. The principle was to select Reuber rat hepatoma cells for resistance to a procarcinogen. The hypothesis was that resistant cells should be systematically deficient in the P450 enzyme(s) involved in the activation process. Here we present an example of the use of this approach using aflatoxin B1 (AFB1), a potent hepatocarcinogen, as the selective agent. Parental cells as well as individual and pooled colonies selected for AFB1 resistance from three independent rat hepatoma lines were characterized for their content of 1) mRNA hybridizing to cDNA and/or oligonucleotide probes for cytochromes P450IIB1, P450IIB2 and albumin; and 2) aldrin epoxidase activity. Parental aflatoxin B1-sensitive cells were shown to express P450IIB1 but not P450IIB2. The majority of the aflatoxin B1-resistant clones failed to accumulate cytochrome P450IIB1 mRNA and expressed no or only very low aldrin epoxidase activity. Albumin mRNA levels remained unchanged, demonstrating that loss of expression of cytochrome P450IIB1 was not a consequence of a general dedifferentiation event. A revertant population showing restoration of both cytochrome P450IIB1 mRNA accumulation and aldrin epoxidase activity was fully sensitive to aflatoxin B1. The correlation between expression of cytochrome P450IIB1 and sensitivity to aflatoxin B1 in both parental cells and revertants strongly suggests that cytochrome P450IIB1 is a major contributor to the activation of aflatoxin B1 in rat hepatoma cells. The kind of strategy described here could be applied to other compounds that become cytotoxic for hepatoma cells following activation by cytochromes P450.
    Materialart: Digitale Medien
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  • 2
    ISSN: 0003-3146
    Schlagwort(e): Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Quelle: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Thema: Chemie und Pharmazie , Physik
    Notizen: We show how narrow spectral holes burnt into the inhomogeneous absorption of dye doped polymers can be used as extremely sensitive detectors for measuring structural rearrangement processes. A model is suggested which relates the observed hole burning phenomena to the specific heat of the conformation phase space.
    Zusätzliches Material: 5 Ill.
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  • 3
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    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Acta Polymerica 41 (1990), S. 553-554 
    ISSN: 0323-7648
    Schlagwort(e): Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Quelle: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Thema: Chemie und Pharmazie , Physik
    Zusätzliches Material: 2 Ill.
    Materialart: Digitale Medien
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  • 4
    Digitale Medien
    Digitale Medien
    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Acta Polymerica 42 (1991), S. 51-52 
    ISSN: 0323-7648
    Schlagwort(e): Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Quelle: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Thema: Chemie und Pharmazie , Physik
    Zusätzliches Material: 3 Ill.
    Materialart: Digitale Medien
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  • 5
    Digitale Medien
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    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Acta Polymerica 42 (1991), S. 289-293 
    ISSN: 0323-7648
    Schlagwort(e): Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Quelle: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Thema: Chemie und Pharmazie , Physik
    Beschreibung / Inhaltsverzeichnis: The investigation of the temperature dependence of polymer etching rates in an oxygen plasma was extented to some more polymers. The complex nature of the etching process becomes obvious, because the temperature dependences are often nonlinear. Characteristic changes in the slope of the curves correspond only in some cases with the glass temperature of the polymers. Therefore these points can also be connected with the formation and etching of adsorption layers. Activation energies of partial processes were determined. Based on the temperature dependence, only some general conclusions on the plasma etching mechanism could be derived.
    Notizen: Die Untersuchung von Temperaturabhängigkeiten der Plasmaätzrate von Polymeren im Sauerstoffplasma wurde auf weitere Polymere ausgedehnt. Die Temperaturabhängigkeit der Plasmaätzrate ist teilweise sehr unterschiedlich, was auf einen sehr komplexen Mechanismus des Ätzprozesses hindeutet. Charakteristische Knickpunkte in den Kurven konnten nur in einigen Fällen mit der Glastemperatur des Polymers in Verbindung gebracht werden. Möglicherweise werden diese Knickpunkte auch durch Abtrag und Bildung von Adsorptionsschichten hervorgerufen. Aktivierungsenergien von Teilprozessen wurden bestimmt. Aus den Temperaturabhängigkeiten allein ließen sich nur allgemeine Schlußfolgerungen über den Mechanismus des Plasmaätzens der einzelnen Polymere ableiten.
    Zusätzliches Material: 4 Ill.
    Materialart: Digitale Medien
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  • 6
    ISSN: 0323-7648
    Schlagwort(e): Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Quelle: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Thema: Chemie und Pharmazie , Physik
    Beschreibung / Inhaltsverzeichnis: Two different hypotheses of the phenomenological process of etching of polymer films in a non isothermal oxygen plasma of a high frequency discharge are discussed: the successive etching on the surface and the formation of an etch-resistant surface layer with a shifting of the degradation processes in polymer bulk. This second model proposed by Valiev requires a complicated system of diffusion processes of plasma species and degradation products. Our findings are in contrast to those of Valiev, but it seems that the plasma modified surface layer plays a dominant role within the ablation process.
    Notizen: Zwei unterschiedliche Vorstellungen zum Ablauf des Abtrags von Polymerschichten in einem nichtisothermen Sauerstoffplasma einer elektrischen Hochfrequenzentladung werden diskutiert: der successive Abbau an der Oberfläche und die plasmaphysikalische Verfestigung der Polymeroberfläche bei gleichzeitiger Verlagerung des Abbaus in des Polymervolumen. Das letztgenannte Modell von Valiev verlangt komplizierte Diffusionsprozesse von abbaufähigen Plasmaspezies und entsprechenden Abbauprodukten. Die hier durchgeführten Modellversuche sprechen in ihren Ergebnissen gegen das Modell von Valiey, wobei jedoch die plasmamodifizierte Polymeroberflächenschicht tatsächlich eine besondere Rolle beim Abbau der gesamten Polymerschicht spielt.
    Zusätzliches Material: 3 Ill.
    Materialart: Digitale Medien
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