ISSN:
0044-2313
Keywords:
Chemistry
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Inorganic Chemistry
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
Description / Table of Contents:
Die Bildung bei 77°K von H2O2 aus Wasserdampf, der durch eine elektrodenlose Niederdruckentladung zur Dissoziation gebracht wurde, wurde als Funktion des Oberflächen/Volumen-Verhältnisses S/V von sowohl beschichteten als auch unbeschichteten Röhrenreaktoren untersucht, die sich zwischen Entladungs-Ausgang und Kühlmittel-Niveau befanden. Bei ansteigendem S/V wird ein Maximum der H2O2-Ausbeute durch laufen: dieses liegt bei Beschichtung mit KCl bzw. H3PO4 bei viel niedrigen S/V-Werten-als bei unbeschichtetem Pyrex-Glas. H3PO4-Beschichtung bewirkt eine kurze bessere Ausbeute als die freie Pyrex-Oberfläche, KCl-Beschichtung eine schlechtere. Bedeckung der Oberflächen mit Eis zeigte praktisch keinen Effekt. Während kondensierte Wasserfilme die H2O2Ausbeute erniedrigten. Die beobachteten Oberflächeneffekte werden so gedeutet, daß die H2O2-Bildung nicht durch Dimerisierung von OH-Radikalen erfolgt, sondern über die Reaktionen H + O2 → O2H und H + O2H → H2O2 an kalter Oberfläche.
Notes:
The formation of hydrogen peroxide at 77°K from water vapour dissociated in a low-pressure electrodeless discharge was investigated as function of the surface-to-volume ratio. S/V, of both coated and uncoated tubular reactors interposed between the discharge exit and the coolant level. As S/V was increased, the peroxide yield increased to a maximum value and then decreased; this maximum shifted to much lower values of S/V for KCl-coated and H3PO4-coated surfaces. Compared with uncoated Pyrex surfaces, H3PO4-coatings gave higher H202 yields whereas KCl-coatings gave lower yields. Surfaces coated well with ice did not show much effect, but condensed water films decreased the H2O2 yield. Similar results were obtained when the surface area and the volume traversed by the dissociated vapour were varied at constant S/V. These surface effects are discussed to show that the formation of H2O2 occurs via the cold surface reactions H + O2 → OaH and H + 02H → H2O2 and not by the dimerization of OH radicals.
Additional Material:
5 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/zaac.19713840314
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