ISSN:
0167-9317
Schlagwort(e):
CMOS technology
;
Silicon process technology
;
device isolation
;
selective epitaxial growth
;
silicon vapor phase epitaxy
Quelle:
Elsevier Journal Backfiles on ScienceDirect 1907 - 2002
Thema:
Elektrotechnik, Elektronik, Nachrichtentechnik
Materialart:
Digitale Medien
URL:
http://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/0167-9317(86)90003-1
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