ISSN:
0323-7648
Schlagwort(e):
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Quelle:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Thema:
Chemie und Pharmazie
,
Physik
Beschreibung / Inhaltsverzeichnis:
The dependence of the etching rate of thin layers of polymers, namely, poly(methyl methacrylate), novolak, and poly(vinyl alcohol), in an oxygen plasma on the parameters temperature, pressure, gas composition, power of electric discharge, and bias-voltage, respectively, was studied. The complex character of the influence of the process parameters changes especially at small gas pressure due to the transition from the plasma etch mode to the reactive ion etching mode (RIE). Several activation energies were obtained from the temperature dependence the cause of which is discussed.
Notizen:
Die Abhängigkeit der Ätzgeschwindigkeit dünner Polymerischichten im Sauerstoffplasma von den Parametern Temperatur, Druck, Gaszusammensetzung, Leistung und Gleichspannung wird für die Polymere Poly(methylmethacrylat), Novolak und Poly(vinylalkohol) untersucht. Der komplexe Charakter des Parametereinflusses ändert sich besonders bei kleinen Gasdrücken infolge des Übergangs vom Plasmaätzen zum reaktiven Ionenätzen (RIE). Aus der Temperaturabhängigkeit resultieren mehrere Aktivierungsenergien, deren Ursache diskutiert wird.
Zusätzliches Material:
7 Ill.
Materialart:
Digitale Medien
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/actp.1989.010401204
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