ISSN:
0003-3146
Keywords:
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
,
Physics
Description / Table of Contents:
In order to solve the polymer swelling which limits the resolution for negative resists, new resists (R) including polymers containing the tetrathiafulvalenylcarbonyloxymethyl radical and dibromotetrachloroethane were developed where the swelling does not appear. In order to study the influence of the nature of the radical bearing the tetrathiafulvalene unit in the polymers upon the microlithographic properties of the R resists, polymers containing the tetrathiafulvalenylphenoxymethyl radical were also studied. The resists have been tested under electron beam irradiation. The dependence of resist sensitivity on molecular weight is reported. Resolutions between 0,1 and 0,4 μm were obtained. These resists are shown to have a desirable combination of properties, including high sensitivity and high resolution.
Notes:
Pour résoudre le phénomène de gonflement qui limite la résolution des résines micro lithographiques classiques, nous nous sommes intéressés à de nouvelles résines avec lesquelles ce phénomène n'apparaǐt pas. Nous avons retenu pour notre étude les résines R qui renferment en mélange un polymère porteur de radicaux tétrathiafulvalénylcarbonyloxyméthyles et le dibromotétrachloroéthane. Afin de voir l'influence de la nature du radical porteur de l'unité tetrathiafulvalène dans le polymère sur les propriétés microlithographiques des résines R, nous nous sommes également intéressés aux polymères renfermant des radicaux tétrathiafulvalénoxyméthyles. Les résines R ont été testées sous irradiation électronique. Leurs sensibilités dépendent en outre de la valeur de la masse molaire du polymère. Des résolutions comprises entre 0,1 et 0,4 μm ont été obtenues. Ce type de résines possèdent un certain nomber de propriétés intéressantes telles que des sensibilités élevées et de bonnes résolutions.
Additional Material:
10 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/apmc.1993.052040101
Permalink
