ISSN:
0323-7648
Schlagwort(e):
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Quelle:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Thema:
Chemie und Pharmazie
,
Physik
Beschreibung / Inhaltsverzeichnis:
XPS investigations and determination of the electron beam sensitivity revealed a crosslinking mechanism via halogen elimination. The crosslinking effect is higher with an admixture of bisazide. The halogen elimination induced by irradiation of the 4-halogenphenol novolac resists increases in the order fluorine, chlorine, bromine, iodine.
Notizen:
XPS-Untersuchungen und die Bestimmung der Elektronenstrahlempfindlichkeit an Halogenphenolnovolak-Resistschichten ergaben, daß ein Vernetzungsmechanismus über Halogeneliminierung abläuft. Durch Bisazidzusatz wird der Vernetzungseffekt erhöht. Die strahlenchemisch induzierte Halogeneliminierung der untersuchten 4-Halogenphenolnovolake steigt in der Reihenfolge Fluor-Chlor-Brom-Iod.
Zusätzliches Material:
9 Ill.
Materialart:
Digitale Medien
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/actp.1991.010420807
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