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Digitale Medien

Pattern-dependent overlay error in optical step and repeat projection lithography

Brunner, T.A.

Amsterdam : Elsevier

Microelectronic Engineering 8 (1988), S. 13-24

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Details

ISSN: 0167-9317

Schlagwort(e): Microlithography ; integrated circuit process technology ; lens distortion ; metrology ; optical microlithography ; overlay error ; reduction error ; step and repeat lithography

Quelle: Elsevier Journal Backfiles on ScienceDirect 1907 - 2002

Thema: Elektrotechnik, Elektronik, Nachrichtentechnik

Materialart: Digitale Medien

URL: http://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/0167-9317(88)90004-4

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