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Impact of topographic mask models on scanner matching solutions

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Metadaten
Author:Jacek Tyminski, Jan Pomplun, Stephen P. Renwick
Document Type:In Proceedings
Parent Title (English):Proc. SPIE: Optical Microlithography XXVII
Volume:9052
First Page:905218
Year of first publication:2014
DOI:https://doi.org/10.1117/12.2045919
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