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Efficient Bayesian inversion for shape reconstruction of lithography masks

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Metadaten
Author:Nando Farchmin, Martin Hammerschmidt, Philipp-Immanuel Schneider, Matthias Wurm, Bernd Bodermann, Markus Bär, Sebastian Heidenreich
Document Type:Article
Parent Title (English):J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS
Volume:19
First Page:024001
Year of first publication:2020
DOI:https://doi.org/10.1117/1.JMM.19.2.024001

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