ISSN:
0323-7648
Keywords:
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
,
Physics
Description / Table of Contents:
Etching rates of polystyrene and caoutchouc are similar in an oxygen plasma of a radio frequency glow discharge (nonthermal plasma). It exists a range of pressure at which the difference of rates is high enough to separate insertions of caoutchouc in polystyrene by etching of the matrix. Electron microscopic patterns of plasma, solvent, chemi-oxidative etched surfaces and break interfaces of caoutchouc and polyethylene filled probes show good agreement. The structure of chalk filled polystyrene can made visible by plasma etching technique advantageously.
Notes:
Die Ätzraten von Polystyren und Kautschuk im Sauerstoffplasma einer Hochfrequenzentladung (nichtthermisches Plasma) differieren nur wenig. In einem bestimmten Druckbereich ist der Unterschied der Ätzraten jedoch groß genug, um Kautschukeinlagerungen in Polystyren durch bevorzugtes Herausätzen der Matrix freilegen zu können. Elektronen mikroskopische Aufnahmen der plasmageätzten, lösungsmittel- und chemisch-oxidativ geätzten Oberflächen sowie von Bruchflächen ergaben bei kautschuk- und polyethylengefüllten Polystyrenproben eine gute Übereinstimmung. Die Struktur kreidegefüllter Polystyrene läßt sich vorteilhaft durch plasmachemisches Ätzen freilegen.
Additional Material:
16 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/actp.1981.010320111
