ISSN:
0933-5137
Keywords:
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics
Description / Table of Contents:
Investigation of hard coatings prepared by RF sputteringAn analysis system has been developed to control the composition of thin films in situ during growth. The analysis is based on the characteristic X-ray emission excited either by an electron beam or by X-ray radiation. As an example, the system has been tested on Ti1-xNx films prepared by reactive sputtering.The structure of hard layers is examined by X-ray diffraction after the preparation. Grazing incidence is employed which means enhanced sensitivity for radiation from the surface. The size of microcrystallites and the microstrain as well as intrinsic macrostrains are examined. For several layer systems the influence of preparation parameters such as nitrogen flow and biasvoltage is demonstrated.
Notes:
Bei der Herstellung von Hartstoffschichten durch reaktives Zerstäuben ist es sinnvoll, die Zusammensetzung der Schicht bereits in-situ während des Aufwachsens zu kontrollieren. Dieses Ziel wurde durch einen experimentellen Aufbau erreicht, bei dem die Analyse mit Hilfe der charakteristischen Röntgenstrahlung erfolgt, die wahlweise durch Elektronen- oder Röntgenanregung der Schicht ausgelöst werden kann. Das System wurde am Beispiel von Ti1-xNx-Schichten erprobt, bei deren Herstellung die Zerstäubungsparameter systematisch verändert wurden.Die Struktur von Hartstoffschichten wird durch Röntgenbeugung nach der Herstellung untersucht; die Besonderheit des hier angewandten Verfahrens ist, daß durch streifenden Einfall die Oberfläche empfindlich vermessen werden kann. Es können Aussagen über die Mikrokristallitgröße und die Mikrodehnung der Schicht, aber auch über den Eigenspannungszustand gemacht werden. An diversen Hartstoffschichten wird der Einfluß der Herstellungsparameter Stickstoffdurchfluß und Vorspannung auf die Schichtstruktur gezeigt.
Additional Material:
9 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19930240308
Permalink
