ISSN:
0323-7648
Keywords:
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Chemistry and Pharmacology
,
Physics
Description / Table of Contents:
Polymeric epoxides produced by copolymerization of cyclohexyl methacrylate and glycidyl methacrylate form together with diaryliodonium salts and triarylsulfonium salts clear coatings on Cr-surfaces. At irradiation with λ = 250 to 300 nm the polymer is crosslinked by the cationic photolysis products of the onium salts. The sulfonium salts are more effective initiators than iodonium salts. For fast crosslinking a less nucleophilic anion, e.g. hexafluorophosphate, is necessary. The catalysator formation can be sensitized by anthracene, 9.10-phenanthrene quinone, benzophenone, and benzoinisopropylether. The sensitivity of these systems is similar to other used photopolymer systems.
Notes:
Durch Copolymerisation von Cyclohexylmethacrylat und Glycidylmethacrylat gewonnene polymere Epoxide bilden in Verbindung mit einigen Diaryliodonium- und Triarylsulfoniumsalzen auf Cr-beschichteten Glassubstraten homogene transparente Schichten. Während der Bestrahlung mit Licht der Wellenlänge λ = 250 bis 300 nm wird das Polymer durch die kationischen Photolyseprodukte der Oniumsalze vernetzt. Die Sulfoniumsalze sind dabei effektiver als die Iodoniumsalze. Für eine optimale Vernetzung ist ein wenig nucleophiles Anion, wie z. B. Hexafluorophosphat, notwendig. Die Bildung des Katalysators kann durch Anthracen, 9.10-Phenanthrenchinon, Benzophenon und Benzoinisopropylether sensibilisiert werden, womit der Empfindlichkeitsbereich der Lacksysteme auf 360 bis 420 nm ausdehnbar ist. Die Empfindlichkeit der Systeme ist vergleichbar mit denen anderer, bereits verwendeter Photopolymer systeme.
Additional Material:
5 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/actp.1988.010390507
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