Bibliothek

X
Suchhistorie löschen
feed icon rss

Ihre E-Mail wurde erfolgreich gesendet. Bitte prüfen Sie Ihren Maileingang.

Leider ist ein Fehler beim E-Mail-Versand aufgetreten. Bitte versuchen Sie es erneut.

Vorgang fortführen?

Exportieren
  • 1
    Digitale Medien
    Digitale Medien
    LCVD of copper: Deposition rates and deposit shapes (1986)
    Springer
    Applied physics 40 (1986), S. 1-5 
    Details
    ISSN: 1432-0630
    Schlagwort(e): 81.15.Gh ; 82.30.Lp
    Quelle: Springer Online Journal Archives 1860-2000
    Thema: Maschinenbau , Physik
    Notizen: Abstract Laser chemical vapor deposition of copper has been performed under a variety of conditions. The results are interpreted using the kinetic model of Ehrlich and Tsao. We find that the kinetics of the process are limited by the rates of surface reactions and not by diffusion of reactant molecules to the surface. Furthermore, we find that deposit shapes are quite sensitive to laser intensity and scan rate.
    Materialart: Digitale Medien
    URL: http://dx.doi.org/10.1007/BF00616584
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
    BibTip Andere fanden auch interessant ...
    Artikel (Nationallizenzen)
    Volltext
Schließen ⊗
Diese Webseite nutzt Cookies und das Analyse-Tool Matomo. Weitere Informationen finden Sie hier...