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    Investigation of PA-CVD of TiN: Relations between process parameters, spectroscopic measurements and layer properties
    Amsterdam : Elsevier
    Surface & Coatings Technology 60 (1993), S. 385-388 
    Details
    ISSN: 0257-8972
    Source: Elsevier Journal Backfiles on ScienceDirect 1907 - 2002
    Topics: Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics , Physics
    Type of Medium: Electronic Resource
    URL: http://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/0257-8972(93)90118-8
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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    Paper (German National Licenses)
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  • 2
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    Spectroscopic investigation of the discharge for PA-CVD of TiN (1993)
    Springer
    Plasma chemistry and plasma processing 13 (1993), S. 93-101 
    Details
    ISSN: 1572-8986
    Keywords: PA-CVD ; pulsed DC discharge ; TiN layers ; emission spectroscopy
    Source: Springer Online Journal Archives 1860-2000
    Topics: Chemistry and Pharmacology , Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics , Technology
    Notes: Abstract Investigations of the discharge for PA-CVD of TiN on steel substrates are carried out using optical emission spectroscopy. A great number of species could be identified in the discharge. The growth rate of dense layers shows a direct dependence on Ti+ intensities. The occurrence of TiN in the discharge leads to f aky, not compact layers, lowering the hardness of the layers.
    Type of Medium: Electronic Resource
    URL: http://dx.doi.org/10.1007/BF01447172
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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    Paper (German National Licenses)
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  • 3
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    Prozeßoptimierung bei der Hartstoffbeschichtung im Plasma-CVD-Verfahren mit Hilfe der optischen Emissionsspektroskopie (1993)
    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Materialwissenschaft und Werkstofftechnik 24 (1993), S. 120-124 
    Details
    ISSN: 0933-5137
    Keywords: Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Source: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Topics: Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics
    Description / Table of Contents: Optimization of the plasma-CVD process for hard coatings by means of optical emission spectroscopyThe deposition of titanium nitride layers by pulsed-DC-PA-CVD was investigated by optical emission spectroscopy. Ti+ and N2+ were controlling factors for layer growth. An occurrence of TiN in the gas phase for higher plasma power deteriorates the layer properties, such as hardness. The analysis of the chemical composition of the layers shows a contrary behaviour of nitrogen and chlorine. The chlorine content affects the hardness of the layers. Chlorine was detected in the discharge in atomic form. No titanium chlorides could be detected. The morphology of the crystal growth is dependent on the deposition parameters.
    Notes: Die Abscheidung von Titannitridschichten mit dem Puls-PA-CVD-Verfahren wurde mit Hilfe der optischen Emissionsspektroskopie untersucht. Ti+ und N2+ wurden als wachstumsbestimmende Spezies ermittelt. Ein Auftreten von TiN in der Gasphase bei höheren Plasmaleistungen verschlechtert die Schichteigenschaften, wie z.B. die Härte. Die Untersuchung der chemischen Zusammensetzung der Schichten zeigt ein gegensätzliches Verhalten von Stickstoff und Chlor. Der Chlorgehalt hat einen starken Einfluß auf die Härte der Schichten. In der Entladung konnte Chlor in atomarer Form nachgewiesen werden. Titanchloride treten nicht auf. Die Behandlungsparameter haben auch einen Einfluß auf die Morphologic des Kristallwachstums.
    Additional Material: 10 Ill.
    Type of Medium: Electronic Resource
    URL: http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19930240310
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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    Paper (German National Licenses)
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  • 4
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    Herstellung von Zr(B,C,N)-Schichten im DC-Puls-PACVD-Prozeß (1993)
    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Materialwissenschaft und Werkstofftechnik 24 (1993), S. 353-355 
    Details
    ISSN: 0933-5137
    Keywords: Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Source: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Topics: Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics
    Description / Table of Contents: Synthesis of Zr(B,C,N) layers by means of pulsed DC-PACVDIn this study the deposition of Zr(B,C,N) layers by means of low temperature (330°C) pulsed DC plasma assisted CVD process was investigated using a metallo-organic compound as precursor being synthesized in a new way. It is shown that the deposition of Zr(B,C,N) layers is possible with high hardness and adhesion in the investigated parameter window.
    Notes: In dieser Studie wurde die Abscheidung von Zr(B,C,N)-Schichten unter Verwendung der auf einem neuen Syntheseweg dargestellten metallorganischen Verbindung CpZr(BH4)3 im DC-Puls-PACVD-Prozeß bei niedrigen Beschichtungstemperaturen (330°C) untersucht. Es konnte gezeigt werden, daß die Herstellung von Zr(B,C,N)-Schichten mit guter Härte und Haftfestigkeit im betrachteten Parameterraum möglich ist.
    Additional Material: 6 Ill.
    Type of Medium: Electronic Resource
    URL: http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19930241003
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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  • 5
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    Abscheidung von Hartstoffschichten des Typs (B,C,N) bei niedrigen Beschichtungstemperaturen im PACVD-Prozeß (1994)
    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Materialwissenschaft und Werkstofftechnik 25 (1994), S. 431-434 
    Details
    ISSN: 0933-5137
    Keywords: Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Source: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Topics: Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics
    Description / Table of Contents: Deposition of hard coatings type (B,C,N) at low coating temperatures by PACVDIn this study the deposition of (B,C,N) layers by means of low temperature (250°C) pulsed DC plasma assisted CVD process was investigated using a metallo-organic compound as precursor being synthesized in a new way. It is shown that the deposition of (B,C,N) layers is possible with high hardness and adhesion in the investigated parameter range.
    Notes: In dieser Studie wurde die Abscheidung von (B,C,N)-Schichten unter Verwendung der auf einem, neuen Syntheseweg dargestellten metallorganischen Verbindung C8H18BN im DC-Puls-PACVD-Prozeß bei niedrigen Beschichtungstermperaturen (250°C) unter-sucht. Es konnte gezeigt werden, daß doe Herstellung von (B,C,N)-Schichten mit guter Härte und Haftfestigkeit im betrachteten Parameterraum möglich ist.
    Additional Material: 6 Ill.
    Type of Medium: Electronic Resource
    URL: http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19940251107
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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    Paper (German National Licenses)
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  • 6
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    Entwicklungen von verschleiß-und korrosionsbeständigen Oberflächensystemen. Development of wear and corrosion resistant surface syatemsZum 60. Geburtstag von Prof. Dr.-Ing. habil. K.-T. Rie (1996)
    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Materialwissenschaft und Werkstofftechnik 27 (1996), S. 573-583 
    Details
    ISSN: 0933-5137
    Keywords: Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Source: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Topics: Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics
    Description / Table of Contents: Develpoment of wear and corrosion resistant surface systemsIn this study two methods are described to realize wear and corrosion resistant surface systems: Plasma diffusion treatment (PDT) and Plasma assited CVD (PACVD). Plasma nitriding, Plasma nitrocarburizing and plasma boriding are used to treat different kinds of substrates. The advances of PACVD and the development of low temperature PACVD and industrial applications of these techniques are explained.
    Notes: In dieser Arbeit werden zwei Verfahren zur Realisierung verschleiß-und korrosionsbeständiger Oberflächensysteme beschrieben: Plasmadiffusionsbehandlung (PDT) und Plasmagestütztes CVD (PACVD). Neben den Plasmanitrierverfahren werden auch Plasmanitrocarburieren und Plasmanborieren von unterschiedlichen Substratwerkstoffen behandelt. Die Fortschirtte beim PACVD und die Entwicklung zu den Niedertemperaturbeschichtungsverfahren werden erläutert und Anwendungen dieser Techniken in der Industrie beispielhaft erwähnt.
    Additional Material: 11 Ill.
    Type of Medium: Electronic Resource
    URL: http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19960271211
    Library Location Call Number Volume/Issue/Year Availability
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  • 7
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    Abscheidung leitender und nichtleitender Hartstoffschichten auf metallischen und keramischen Werkstoffen mittels Hochfrequenz-Plasma-CVD (1993)
    Weinheim : Wiley-Blackwell
    Materialwissenschaft und Werkstofftechnik 24 (1993), S. 392-396 
    Details
    ISSN: 0933-5137
    Keywords: Chemistry ; Polymer and Materials Science
    Source: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Topics: Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics
    Description / Table of Contents: Deposition of conductive and nonconductive hard coatings on metallic and ceramic materials by RF-PA-CVDConductive titanium nitride and nonconductive aluminium oxide layers were deposited on conductive and nonconductive substrates by a RF-PA-CVD process. The influence of substrate material, pressure, plasma power and the components of the gas mixture on the layer properties was investigated.TiN coatings with a homogeneous structure could be deposited by using TiCl4 as precursor. The properties of the layer are strongly influenced by the substrate material. An increasing pressure causes a faster deposition rate and a higher chlorine content. A lower chlorine content and at the same time a faster deposition rate can be achieved by increasing the r.f. power.Aluminium and aluminium oxide layers could be deposited on steel and Si3N4 substrates by using AlCl3 as precursor in dependence on the CO2 content in gas mixture. Higher CO2 content facilitates the deposition of aluminium oxide.
    Notes: Mit einem Hochfrequenz-Plasma-CVD-Verfahren wurden elektrisch leitende TiN-Schichten und nichtleitende Al2O3-Schichten auf leitende wie nichtleitende Substrate aufgebracht. Der Einfluß des Grundwerkstoffes sowie der Versuchsparameter Druck, Plasmaleistung und Prozeßgaszusammensetzung auf die Schichteigenschaften wurde untersucht.Mit TiCl4 als Precursor konnten TiN-Schichten mit einem homogenen Schichtaufbau hergestellt werden. Die Schichteigenschaften sind deutlich vom Grundwerkstoff abhängig. Eine Steigerung des Systemdruckes hat einen Anstieg der Abscheiderate und des Chlorgehaltes zur Folge. Eine Erhöhung der Plasmaleistung führt zur Senkung des Chlorgehaltes bei leicht gesteigerter Abscheiderate.Mit AlCl3 als Spendermedium konnten in Abhängigkeit vom CO2-Prozeßgasanteil Aluminium- oder Aluminiumoxidschichten auf Stahl- und Si3N4-Substraten abgeschieden werden. Höhere CO2-Anteile begünstigen die Abscheidung von Aluminiumoxid.
    Additional Material: 7 Ill.
    Type of Medium: Electronic Resource
    URL: http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19930241108
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