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  • Industrial Chemistry and Chemical Engineering  (1)
  • organogermanium film  (1)
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    Digitale Medien
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    Chemical vapour deposition of germanium-containing films by IR laser-induced decomposition of ethoxy(trimethyl)germane (1995)
    New York, NY [u.a.] : Wiley-Blackwell
    Applied Organometallic Chemistry 9 (1995), S. 667-673 
    Details
    ISSN: 0268-2605
    Schlagwort(e): chemical vapour deposition ; laserinduced decomposition ; organogermanium film ; ethoxy(trimethyl)germane ; Chemistry ; Organic Chemistry
    Quelle: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Thema: Chemie und Pharmazie
    Notizen: Carbon Dioxide (CO2) laser-induced decomposition of ethoxy(trimethyl)germane (ETG) results in a substantial stripping of organic substituents from germanium and leads to deposition of organogermanium films, the composition of which is dependent on the mode of laser irradiation. Direct absorption of laser radiation in ETG affords material rich in Germanium, while a sulfur hexafluoride (SF6)-photosensitized process produces a deposit composed of Germanium, Carbon, Hydrogen and Oxygen. The deposited materials can be modified by chemical reactions with acetic anhydride and atmospheric moisture.
    Zusätzliches Material: 6 Ill.
    Materialart: Digitale Medien
    URL: http://dx.doi.org/10.1002/aoc.590090804
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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    Volltext
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    Digitale Medien
    Digitale Medien
    Si/C phases from the IR laser-induced decomposition of divinylsilane (1998)
    New York, NY [u.a.] : Wiley-Blackwell
    Applied Organometallic Chemistry 12 (1998), S. 427-433 
    Details
    ISSN: 0268-2605
    Schlagwort(e): laser ; chemical vapour deposition ; thin films ; Si/C/H materials ; divinylsilane ; silicon carbide ; polycarbosilane ; Chemistry ; Industrial Chemistry and Chemical Engineering
    Quelle: Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
    Thema: Chemie und Pharmazie
    Notizen: Transversely excited atmospheric (TEA) CO2 laser-induced decomposition of divinylsilane in the gas phase yields unsaturated C2-C4 hydrocarbons, benzene and vinylsilane, and it represents a convenient process for chemical vapour deposition of thin solid films composed of silicon carbide and polycarbosilane. © 1998 John Wiley & Sons, Ltd.
    Zusätzliches Material: 8 Ill.
    Materialart: Digitale Medien
    Bibliothek Standort Signatur Band/Heft/Jahr Verfügbarkeit
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