ISSN:
1432-0487
Source:
Springer Online Journal Archives 1860-2000
Topics:
Electrical Engineering, Measurement and Control Technology
Description / Table of Contents:
Übersicht Aspekte der Prozeßintegration sowie verschiedene Ansätze zur Reduzierung der Prozeßschritte für hochleistungsfähige und preisgünstige sub-half micron BiCMOS LSIs werden in diesem Aufsatz diskutiert. Die Anwendung der zu beschreibenden Technologien ermöglicht das Hinzufügen des Bipolartransistor-Prozesses bei einem nur minimalen Anstieg der Prozeßkomplexität und Erhalt der Kompatibilität zur gegenwärtigen CMOS-Technologie. Abschließend werden Zukunftsperspektiven der BiCMOS-Technologie erörtert.
Notes:
Contents The process integration issues and various approches to reduce process steps for high performance/low cost sub-half micron BiCMOS LSIs are reviewed. Using these technologies, the bipolar transistor process is added with minimum increase in process complexity, while maintaining compatiblity with a state-of-the-art CMOS process. Future prospects for high performance BiCMOS device/process technologies are addressed.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1007/BF01235873
