ISSN:
0933-5137
Keywords:
Chemistry
;
Polymer and Materials Science
Source:
Wiley InterScience Backfile Collection 1832-2000
Topics:
Mechanical Engineering, Materials Science, Production Engineering, Mining and Metallurgy, Traffic Engineering, Precision Mechanics
Description / Table of Contents:
Deposition of conductive and nonconductive hard coatings on metallic and ceramic materials by RF-PA-CVDConductive titanium nitride and nonconductive aluminium oxide layers were deposited on conductive and nonconductive substrates by a RF-PA-CVD process. The influence of substrate material, pressure, plasma power and the components of the gas mixture on the layer properties was investigated.TiN coatings with a homogeneous structure could be deposited by using TiCl4 as precursor. The properties of the layer are strongly influenced by the substrate material. An increasing pressure causes a faster deposition rate and a higher chlorine content. A lower chlorine content and at the same time a faster deposition rate can be achieved by increasing the r.f. power.Aluminium and aluminium oxide layers could be deposited on steel and Si3N4 substrates by using AlCl3 as precursor in dependence on the CO2 content in gas mixture. Higher CO2 content facilitates the deposition of aluminium oxide.
Notes:
Mit einem Hochfrequenz-Plasma-CVD-Verfahren wurden elektrisch leitende TiN-Schichten und nichtleitende Al2O3-Schichten auf leitende wie nichtleitende Substrate aufgebracht. Der Einfluß des Grundwerkstoffes sowie der Versuchsparameter Druck, Plasmaleistung und Prozeßgaszusammensetzung auf die Schichteigenschaften wurde untersucht.Mit TiCl4 als Precursor konnten TiN-Schichten mit einem homogenen Schichtaufbau hergestellt werden. Die Schichteigenschaften sind deutlich vom Grundwerkstoff abhängig. Eine Steigerung des Systemdruckes hat einen Anstieg der Abscheiderate und des Chlorgehaltes zur Folge. Eine Erhöhung der Plasmaleistung führt zur Senkung des Chlorgehaltes bei leicht gesteigerter Abscheiderate.Mit AlCl3 als Spendermedium konnten in Abhängigkeit vom CO2-Prozeßgasanteil Aluminium- oder Aluminiumoxidschichten auf Stahl- und Si3N4-Substraten abgeschieden werden. Höhere CO2-Anteile begünstigen die Abscheidung von Aluminiumoxid.
Additional Material:
7 Ill.
Type of Medium:
Electronic Resource
URL:
http://dx.doi.org/10.1002/mawe.19930241108
Permalink
